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拋光蠟的質量及濃度值對拋光產品的影響

作者:華銘拋光  來源:溫州華銘拋光研磨材料有限公司  更新時間:2018-05-21 10:28:28  點擊次數:

很多產品在出廠前都要經過打磨拋光,以顯示產品表麵的平、滑、亮、光的效果,提高產品的投放價值。所以,拋光蠟作為現在加工行業最廣泛應用的材料之一。


使用拋光蠟的工具:海綿盤、納米毛巾、拋光機 拋光輪等。

材料:拋光蠟(粗、中、細)

拋光作用:解決漆麵氧化層、條紋、汙染、褪色等影響漆麵外觀的深層問題。

拋光原則:由重到輕,重力研磨,輕力提光。

拋光蠟的拋光三環節:研磨、拋光、還原。通過表麵預處理清除漆麵上的汙物,消除嚴重氧化及微劃痕或減輕表麵缺陷,使漆麵上無氧化層、條紋、汙染、褪色等缺陷。


拋光蠟的濃度值直接關係到拋光機上工件的加工效果,具體來說是影響工件粗糙度的值。拋光蠟的濃度不宜過濃或過稀,它們之間有一個最佳濃度值,隻有在這個最佳的範圍內才能保證工件表麵粗糙度的良好性。拋光蠟過濃的話會導致研磨時,工件表麵的磨削力變大,會導致表麵有劃痕,不光滑,同時粗糙度變大。當拋光蠟過稀時,工件表麵磨削力太小,去除表麵很慢也起不到去除斑點、劃痕的效果,粗糙度也人變大。因此隻有拋光蠟濃度適當時這些問題才能徹底解決。


假設拋光輪轉速為6000 r/min,拋光蠟流量為0.6L/min。隨著CeO2濃度的增大,氮化矽陶瓷加工表麵Ra值變小,當拋光蠟濃度超過最佳濃度值後,Ra值增大。其原因是: 拋光蠟濃度較低時,拋光蠟中CeO2微粒不足,即沒有足夠的CeO2微粒參與化學反應,從而使氮化矽材料的去除率較低,表麵粗糙度差;當拋光蠟濃度增大時,化學機械拋光過程中參與化學反應的原料供應增加,加大了有效機械研磨作用,使局部溫度升高,化學反應加速,並且生成的軟質層被有效去除,從而實現了較高的去除率和加工表麵質量; 拋光蠟的濃度進一步增大時,化學作用得到進一步的增強,但是機械作用相對不足,導致表麵粗糙度值增大。


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